最新型High-NA EUV曝光機的售價是多少？

ASML High-NA EUV 曝光機的價格

ASML 最新型的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）的售價高達 3.5 億歐元。這款曝光機因其在先進晶片製造中的關鍵作用而備受矚目，能夠幫助晶片製造商持續推進晶片製程的微縮。

High-NA EUV 技術的重要性

High-NA EUV 光刻技術對於製造 7 奈米、5 奈米、3 奈米乃至更先進的 2 奈米製程至關重要。ASML 的 EUV 光刻機利用極紫外光將工程師設計好的電路圖，以極高的精度轉移到晶圓上，是製造先進晶片不可或缺的設備。這使得積體電路上能夠乘載的電晶體數量能夠持續增加，推動摩爾定律的發展。

ASML 的技術壟斷與影響

由於 EUV 光刻技術的獨特性和關鍵性，ASML 在全球半導體供應鏈中扮演著舉足輕重的角色。然而，這種技術壟斷也使其受到地緣政治的影響。部分國家會透過限制 ASML 的技術出口，來影響其他國家的半導體產業發展。