ASML的High-NA EUV機台單價高達3.5億歐元，其技術優勢體現在哪裡？

ASML High-NA EUV機台的技術優勢

ASML的High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）曝光機，單價高達3.5億歐元，其技術優勢在於它能實現更精密的晶片製造。這種設備使用極紫外光微影技術，可將工程師設計的電路圖縮小並映射到晶圓上，從而製造出更小、更密集的電晶體。這項技術對於台積電等公司持續推進7奈米、5奈米、3奈米甚至2奈米製程至關重要，使其在半導體領域保持領先地位。

EUV技術在摩爾定律中的作用

ASML的EUV技術被譽為「摩爾定律的救星」，因為它使半導體製造商能夠大約每18到24個月將積體電路上乘載的電晶體數量翻倍。台積電作為ASML的最大客戶，正是在EUV技術的加持下，才能不斷突破製程瓶頸，持續打造更小的電晶體，並鞏固其市場領先地位。

High-NA EUV機台的客戶與影響

ASML計畫向台積電、英特爾和三星提供最新的High-NA EUV機型。由於EUV技術在半導體製造中的關鍵地位，荷蘭政府曾應美國要求，限制最先進的晶片製造技術出口給中國，這實際上限制了ASML向中國出口設備，對中國半導體的發展產生了制約作用。