隨著半導體製程推進到3奈米以下，銳澤實業是如何透過開發肘管集塵裝置（ECD）和粉塵捕捉器（PCD）來解決微細粉塵對生產線的影響，並建立競爭壁壘？

Question

隨著半導體製程演進到3奈米以下，生產過程中產生的微細粉塵成為影響生產良率的關鍵因素。銳澤實業透過開發肘管集塵裝置（ECD）和粉塵捕捉器（PCD）等創新技術，有效解決了傳統方法難以清除的微細粉塵問題，降低設備當機風險，從而建立起獨特的競爭優勢。這些技術不僅提升了客戶生產效率，也鞏固了銳澤在半導體廠務工程領域的領先地位。

Accepted Answer

## 銳澤實業透過創新集塵技術，有效解決半導體製程微細粉塵問題

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隨著半導體製程推進到3奈米以下，銳澤實業是如何透過開發肘管集塵裝置（ECD）和粉塵捕捉器（PCD）來解決微細粉塵對生產線的影響，並建立競爭壁壘？

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